Rigaku創(chuàng)新技術公司宣布制造用于壓力校驗儀制造的反射鏡的精密EUVL光學涂層
對于將晶片圖案高速印刷到晶片上的壓力校驗儀
高性能多層光學全球供應商Rigaku Innovative Technologies（CTO傳感器）宣布推出一系列用于制造半導體工業(yè)晶片圖案印刷反射鏡的精密極紫外光刻（EUVL）光學涂層。 CTO傳感器的壓力校驗儀是在掃描儀工具內使用的光鏈的關鍵要素，其以每小時125個晶片的速度將芯片圖案印刷到晶片上。
CTO傳感器涂層用于下一代光刻技術，其將使得半導體工業(yè)能夠繼續(xù)減小印刷晶體管尺寸。這通過大大增加可以在芯片上印刷的晶體管的數(shù)量來增加器件功能。此外，芯片消耗更少的功率，這是延長器件電池壽命的關鍵因素。新芯片將用于繼續(xù)智能手機技術，GPS設備，家庭娛樂和許多其他無線應用的發(fā)展。
CTO傳感器在shijie級壓力校驗儀設計和制造方面擁有30多年的經(jīng)驗，是該行業(yè)非常好的好立體積制造商。它是#早投資研發(fā)用于EUVL設備的多層涂層的公司之一。這種深厚的經(jīng)驗基礎好特地使Rigaku滿足半導體行業(yè)要求的精度要求。
基于其好特的現(xiàn)有“在線”多層涂層沉積系統(tǒng)，CTO傳感器#近開發(fā)并安裝了第二個在線高通量系統(tǒng)。新的沉積系統(tǒng)由兩個好立的在線系統(tǒng)組成，可同時沉積4個直徑達800毫米的大型光學元件。它還可用于在同步加速器和其他應用中實現(xiàn)高達1.5米長的基板上的高精度涂層，具有復雜的2維d間距分布模式。新系統(tǒng)還具有非常低的缺陷率。
作為x射線/ EUV多層涂層的領導者，Rigaku光學在整個產(chǎn)品系列中具有更好的性能和更好的性能一致性。此外，Rigaku已經(jīng)開發(fā)了一個過程，以翻新光學接近原始的性能水平。翻新過程增加了光學壽命并抵消了污染和輻射損害的影響，對于降低生產(chǎn)成本至關重要。
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